レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2019/12/30〜2020/01/12

ﾚｰｻﾞｰﾃｯｸのおさらいです。
ﾚｰｻﾞｰﾃｯｸは、半導体関連装置（フォトマスク欠陥検査装置、マスクブランクス欠陥検査装置、ウェハ関連検査装置）、FPD用大型フォトマスク欠陥検査装置、レーザー顕微鏡、及びリチウムイオン電池等の検査計測装置の開発、製造、販売、サービスの提供を行うメーカーである。
最先端の光応用技術を用い、独自の検査・測定装置を開発し、販売している。
研究開発型ファイブライド戦略を採用しており、研究開発に売上高の約10％を投資するほか、社内リソースは開発に特化している。従業員の約70％がエンジニアで、製品の試作は自社で行うが、製品製造については複数の協力会社を活用している。同社は、開発した製品により最適な協力会社を選択し生産を委託している。
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主な顧客は大手半導体メーカー大手各社で、業界における世界的な企業と緊密に情報共有を図り、最先端の製品を開発することに努めており、場合によっては顧客との協業も行う。顧客との強い関係を築くことで、同社の事業分野における優位性を維持している。
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グローバルニッチトップ戦略を掲げ、ニッチ市場におけるシェア100%を目指している。狙う市場は、他社と差別化が可能で、顧客が高い付加価値を求めている市場であり、大企業にとっては敢えて参入するほど大きくない市場であり、また中小企業にとっては経験・技術がないと参入が極めて困難な市場である。同社は半導体製造装置のなかでも、検査・測定工程に係る装置で高シェアを有し、世界市場シェア100％の製品は、半導体マスクブランクス欠陥検査装置、EUVマスクブランクス欠陥検査装置、EUVマスク裏面検査/クリーニング装置など。
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今後も、光応用技術を活用した製品開発により事業の成長を図る。光源にレーザーを使用し高解像度化を図った「レーザー顕微鏡」の開発から、全焦点の3次元画像が得られる「共焦点光学系技術」を確立。さらに半導体リソグラフィのアプリケーションに適用する「DUV およびEUV光学系技術」、超解像リソグラフィへの応用で光の位相を正確に測定する「光干渉技術」を開発してきた。これら3つの光応用技術を有することが、同社の差別化の要因である。
この技術の積み上げをコアに、エレクトロニクスなどの周辺技術やアプリケーションとの組み合わせによる製品開発を継続する。