投稿一覧に戻る (株)ホロン【7748】の掲示板 2018/11/08〜2018/12/04 430 hir***** 2018年11月21日 11:05 ・7ナノの半導体からARF液浸＋マルチパーターンニングからEUV露光へ ・露光装置の世代交代によって、装置、部材にも変化あり ・EUV露光装置本体のASML（オランダ）はいうまでもなく ホロンやレーザテック、HOYA、旭硝子等もかなりの恩恵を受ける予定。 そう思う9 そう思わない1 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
・7ナノの半導体からARF液浸＋マルチパーターンニングからEUV露光へ
・露光装置の世代交代によって、装置、部材にも変化あり
・EUV露光装置本体のASML（オランダ）はいうまでもなく
ホロンやレーザテック、HOYA、旭硝子等もかなりの恩恵を受ける予定。