投稿一覧に戻る レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2023/09/12〜2023/09/13 791 tem***** 2023年9月13日 10:02 >>509 社訓：スーパーラピッド、世の中に無いもの毎年一つ開発して行こう！！ｗｗ(๑>◡<๑)💛*ﾟ✲ฺ٩(ˊᗜˋ*)و ✲ฺ ＡＳＭＬでも課題だったデブリ＆コンタミを解決！！ｗｗ(๑>◡<๑)💛*ﾟ✲ฺ٩(ˊᗜˋ*)و ✲ฺ Sn を使った EUV 光源では、デブリの抑制が重要な課題のひとつです。 「URASHIMA」では当社が独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーの EUV 光源を実現しました。 さらに照明光学系のコンタミネーションも抑制し、従来を上回る生産性を実現しています。 レーザーテックは今後も独自のソリューション開発に力を注ぎ、EUV リソグラフィにおける品質改善、生産性向上に貢献してまいります。 ☆彡☆彡～～～～～～～～～～～～～～～～～ また一つ、超微細EUVフォトマスク原版歩留まり向上半導体量産化技術に新たな歴史が刻まれた。 By銀河英雄伝説 そう思う3 そう思わない2 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る 819 jjh***** 2023年9月13日 10:21 >>791 一台、いくら位なんでしょうね。見当もつきません。 そう思う4 そう思わない1 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する
jjh*****
>>509
社訓：スーパーラピッド、世の中に無いもの毎年一つ開発して行こう！！ｗｗ(๑>◡<๑)💛*ﾟ✲ฺ٩(ˊᗜˋ*)و ✲ฺ
ＡＳＭＬでも課題だったデブリ＆コンタミを解決！！ｗｗ(๑>◡<๑)💛*ﾟ✲ฺ٩(ˊᗜˋ*)و ✲ฺ
Sn を使った EUV 光源では、デブリの抑制が重要な課題のひとつです。
「URASHIMA」では当社が独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーの EUV 光源を実現しました。
さらに照明光学系のコンタミネーションも抑制し、従来を上回る生産性を実現しています。
レーザーテックは今後も独自のソリューション開発に力を注ぎ、EUV リソグラフィにおける品質改善、生産性向上に貢献してまいります。
☆彡☆彡～～～～～～～～～～～～～～～～～
また一つ、超微細EUVフォトマスク原版歩留まり向上半導体量産化技術に新たな歴史が刻まれた。
By銀河英雄伝説