(株)ソシオネクスト【6526】の掲示板 2023/02/23〜2023/03/01

レーザーはEUVフォトマスク欠陥検出装置メーカ、ASMLはEUV露光装置、担当工程が違う！！
フォトマスクの完成度が高くないと、ソシオネクストの微細回路の設計技術も歩留まりが低下する。
そんな重要な工程を担っている。

ニッチ分野！！

ソシオで作った回路設計原版がレーザーのフォトマスク欠陥検出層装置て不良化個所を発見し歩留まり向上に貢献する。

相乗効果が期待できる。

SoC設計とマスクは両輪で、AMSLやAMATがおろそかにすると歩留まり急激に悪化する。