投稿一覧に戻る キヤノン(株)【7751】の掲示板 2024/05/07〜2024/05/31 400 smamka 5月18日 17:41 アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したＴＳＭＣのケビン・チャン上級副社長はＡＳＭＬの高ＮＡ（開口数）極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高ＮＡ・ＥＵＶの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは１台３億5000万ユーロ（約590億円） 一台５９０億円で半導体製造時には莫大な電力を消費するASLMのEUV露光装置と、一台１００億円にも満たない消費電力10分の1のナノインプリント。 軍配はどちらに上がるでしょうかね。 そう思う20 そう思わない7 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したＴＳＭＣのケビン・チャン上級副社長はＡＳＭＬの高ＮＡ（開口数）極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高ＮＡ・ＥＵＶの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは１台３億5000万ユーロ（約590億円）
一台５９０億円で半導体製造時には莫大な電力を消費するASLMのEUV露光装置と、一台１００億円にも満たない消費電力10分の1のナノインプリント。
軍配はどちらに上がるでしょうかね。