レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2020/07/08〜2020/07/15

>>621

下の記事はキヤノングローバルのホームページから引用したものですが
マスクと書かれていますが、ここで言うマスクがEUVリソグラフィーにもナノインプリントリソグラフィーにも使えるとは思えないのですが
やはりそれ用のマスクが必要で、検査装置も新たなものが必要なのでは
そこに他社の参入する余地があるのではないでしょうか、
キヤノングローバルのHPをご覧になってください

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従来の露光技術が光で回路を焼き付けるのに対し、ナノインプリントリソグラフィはパターンを刻み込んだマスク(型)をウエハー上に塗布された樹脂に押し当てて回路を形成します。光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウエハー上に再現できます。しかし、直接転写で回路パターンを形成するには、nmレベルで正確にマスクとウエハーの位置関係を制御する技術や、微小な粒子の除去など、高度な技術が求められます。キヤノンはハード、ソフト、材料などの技術や、微粒子の発生や混入を抑制する環境制御技術などを総合的に開発。困難といわれた実用化に向けたハードルを克服したのです。
その一つが、ウエハー上に塗布する樹脂の量・位置の制御です。ウエハー上に塗布された樹脂にマスクを押し当てる際、樹脂がマスクの側面からはみ出すことを防ぎながら、使用するマスクの凹凸にかかわらず均一な厚みの樹脂層が形成されるように、樹脂の塗布量と位置を高精度に制御する技術を開発しました。また、マスクとウエハーの位置関係を最適に制御し、凸型に樹脂で形成した回路パターンが破壊されないようにマスクをウエハーから引きはがすことも可能にしました。