投稿一覧に戻る レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2020/06/01〜2020/06/05 1168 tem***** 2020年6月6日 00:29 ここをｽﾄﾛﾝｸﾞﾎｰﾙﾄﾞで握ってるｶｲ方で、特にﾑｰﾆｰﾊﾟﾝﾂ（新型背中漏れ防止ﾀｲﾌﾟ）で拾った方々は皆、毎日がﾎﾞｰﾅｽ日や給料日の方々です。 ｲﾝﾃﾙが躓いたのも液浸ﾀｲﾌﾟに拘ったからです。 EUVﾏｽｸﾊﾟﾀｰﾝは液浸ArF露光に比べ非常にｼﾝﾌﾟﾙな故、歩留まりが高く生産効率が圧倒的に高いです。 昔はNikonがｽﾃｯﾊﾟｰで頑張ってましたが、ｵﾗﾝﾀﾞASMLのEUV技術の前に屈しました。 ｲﾝﾃﾙもArF液浸露光はもう限界なので、今後のCPUﾛｼﾞｯｸ半導体ﾏｽｸﾊﾟﾀｰﾝはEUV方式に切り替わります。 ﾌｧﾌﾞﾚｽ企業AMDは今や低価格でｲﾝﾃﾙの市場を奪還してる状態です。 そう思う22 そう思わない8 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
ここをｽﾄﾛﾝｸﾞﾎｰﾙﾄﾞで握ってるｶｲ方で、特にﾑｰﾆｰﾊﾟﾝﾂ（新型背中漏れ防止ﾀｲﾌﾟ）で拾った方々は皆、毎日がﾎﾞｰﾅｽ日や給料日の方々です。
ｲﾝﾃﾙが躓いたのも液浸ﾀｲﾌﾟに拘ったからです。
EUVﾏｽｸﾊﾟﾀｰﾝは液浸ArF露光に比べ非常にｼﾝﾌﾟﾙな故、歩留まりが高く生産効率が圧倒的に高いです。
昔はNikonがｽﾃｯﾊﾟｰで頑張ってましたが、ｵﾗﾝﾀﾞASMLのEUV技術の前に屈しました。
ｲﾝﾃﾙもArF液浸露光はもう限界なので、今後のCPUﾛｼﾞｯｸ半導体ﾏｽｸﾊﾟﾀｰﾝはEUV方式に切り替わります。
ﾌｧﾌﾞﾚｽ企業AMDは今や低価格でｲﾝﾃﾙの市場を奪還してる状態です。