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半導体向けは極紫外線（ＥＵＶ）露光用が絶好調。マスク検査装置が増勢のうえ、ＥＵＶ光使用のマスクブランクス検査装置が初計上（２台で80億円）。開発費想定以下で営業増益幅拡大。増配。21年６月期は新しいマスク検査装置投入し利益続伸。
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