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(株)フェローテックホールディングス【6890】の掲示板 2022/06/25〜2022/06/30
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>>191
AMATのDPSでましたっけ?あれも酸化膜のエッチングには適していなかったと思うのですが。
ゲート電極のエッチングには良いですが。 -
>>191
DPSは、MetalとPolyだと思いますが、面内均一性が良くないようです。
https://www.lamresearch.com/ja/product/kiyo-product-family/
が主流だと思いますとしか言えません。
TELのEtcherは特定の場所に限定した使い方みたいです。
>>190
成る程、技術は進んでいるんですね!
それでは、三次元NANDフラッシュメモリーの、128メモリー積層の深い微細な貫通穴のエッチングは、TEL型の並行平板の周波数プラズマとではなくて、ラムリサーチのICP型のエッチャーでエッチングしてるんですか?
古い頭の私には、HDPだと、エッチングガスが乖離しすぎて選択比と垂直形状での加工が難しいと思うのですが?