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レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2024/05/03〜2024/05/07

[Q]今ご説明で ACTIS の引き合いが強い。
さらに強くなっているということの背景ですけれども。
ペリクル、あるいはより解像度の高い検査が主体、あるいは NVIDIA の B200 のように、レチクルサイズのチップが増えてきていることなど、どの要因がその ACTIS の需要をより強めているとお考えでしょうか。

[A]:一番大きいのはやはり、より解像度の高い、より検出能力の高い検査装置が求められているということではないかと思います。
また、おっしゃられたレチクルサイズですね。

GPU とか CPU もそうですけど、ダイ・サイズの大きいデバイスというのは、例えば、ダイ・サイズが 2 倍になれば同じ環境ですと、パーティクル汚染の確率が 2 倍になるということで、よりマスク上の欠陥であるとか、パーティクル汚染というのを非常に厳密にコントロールしなければいけないです。

ディフェクトフリー、パーティクルフリーにしなければいけないということで、よりそういう意味では解像度の高い、検出能力の高い検査装置が求められているというのが一番大きい理由じゃないかと思います。

先ほどおっしゃられたように、ペリクルが装着されると、当社で言う DUV 光源の EUV マスク検査装置である MATRICS というのは、もう使えなくなってしまうので、ACTIS +URASHIMAがマストになります。

これも ACTIS の需要にはやはり影響を与えると考えております。

レーザーテック(株)【6920】 [Q]今ご説明で ACTIS の引き合いが強い。 さらに強くなっているということの背景ですけれども。 ペリクル、あるいはより解像度の高い検査が主体、あるいは NVIDIA の B200 のように、レチクルサイズのチップが増えてきていることなど、どの要因がその ACTIS の需要をより強めているとお考えでしょうか。  [A]:一番大きいのはやはり、より解像度の高い、より検出能力の高い検査装置が求められているということではないかと思います。 また、おっしゃられたレチクルサイズですね。  GPU とか CPU もそうですけど、ダイ・サイズの大きいデバイスというのは、例えば、ダイ・サイズが 2 倍になれば同じ環境ですと、パーティクル汚染の確率が 2 倍になるということで、よりマスク上の欠陥であるとか、パーティクル汚染というのを非常に厳密にコントロールしなければいけないです。  ディフェクトフリー、パーティクルフリーにしなければいけないということで、よりそういう意味では解像度の高い、検出能力の高い検査装置が求められているというのが一番大きい理由じゃないかと思います。  先ほどおっしゃられたように、ペリクルが装着されると、当社で言う DUV 光源の EUV マスク検査装置である MATRICS というのは、もう使えなくなってしまうので、ACTIS +URASHIMAがマストになります。  これも ACTIS の需要にはやはり影響を与えると考えております。