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レーザーテック(株)【6920】の掲示板 2023/02/18〜2023/02/20

日本曹達は、半導体のKrFフォトレジスト材料として使用されるポリパラヒドロキシスチレン(製品名:VPポリマー)の生産能力を増強する。同社千葉工場(千葉県市原市)に25億円を投資し、2024年下期までに生産能力を現状の2倍にする。

ニュースリリース
 KrFフォトレジストを用いる半導体の需要が増加傾向にあることから、材料の生産能力増強に踏み切る。具体的には、スマートフォンなど向け3次元(3D)NAND フラッシュメモリーや、車載・産業用半導体の需要が伸びており、供給体制の拡充が求められている。

 日本曹達のVPポリマーは、独自開発のリビングアニオン重合技術を用いて、分子量の分散度が狭く高品質という特徴がある。生産能力増強と並行して、新材料開発にも取り組む。