ｉシェアーズ JPX日経400 ETF【1364】の掲示板

8月11日 21:02

ﾆｺﾝは半導体ｽﾃｯﾊﾟｰ技術の露光装置で一時名を馳せてましたが、結果的にASMLに負けました。
どうも自前で完結しようとしてファブライト企業であるASMLに負けたようです。
ｲﾝﾃﾙが2.5nm以下の線幅をこの買収した企業の電子ﾋﾞｰﾑ描画装置で歩留まり良くﾊﾟﾀｰﾝを描けるか否かにかかってそうですね。

AMDやASMLと技術覇権で争ってるｲﾝﾃﾙは何かしらの勝算があって買収した企業と考えますが、究極は電子一個分の線幅があれば、消費電力の観点からもいいのですが、電子の世界はﾊﾟﾀｰﾝ間の寄生容量という厄介な問題があります。

まだ最先端の第9世代ｲﾝﾃﾙCore_iでも10nmです。
ASMLのEUV露光回路技術とﾚｰｻﾞｰﾃｯｸのEUV半導体検査技術はある意味、技術がﾏｯﾁﾝｸﾞしているので3nm以下が描画できる新しい技術として、開発展開出来れば可能性がありそうです。

何れにしろ3nmまでは前工程の描画装置でﾊﾟﾀｰﾝ描画の歩留まり向上ありきの、後工程検査技術グローバルシェア100％であるﾚｰｻﾞｰﾃｯｸの出番と考えてます。

光応用技術の電子顕微鏡も興味ありますし、FPD4K,8K,16Kの今後の展開も気になるところです。