(株)ニコン【7731】の掲示板 2015/06/05〜2015/07/19

拡大するＡｒＦ液浸露光機市場 ニコンが次世代４５０ミリ機

半導体装置・部材業界においてＡｒＦ（フッ化アルゴン）リソグラフィ技術の開発が進んでいる。
回路線幅が10ナノメートル以下になっても主流はＡｒＦとみられるだけに、各社とも開発の手を緩めない。
ニコンは大口径450ミリメートル対応露光機プロトタイプを世界で初めて出荷、2017年以降に量産に入る。
また蘭ＡＳＭＬの子会社であるサイマーはＡｒＦリソグラフィのコストダウンを図るため、ネオンガス削減プログラムを14日に発表した。最先端デバイス向けにＡｒＦレジストの需要も増大基調にある。

化学工業日報　2015年07月15日