(株)インターアクション【7725】の掲示板 2020/01/22〜2020/04/13

EUVリソグラフィーでは、露光光源の出力が弱い為（13.5nm)製造ピッチが遅くなるという欠点があるそうです。

そのために、ペリクル（防塵カバー)を使わないパターンマスクを使う半導体メーカーが多いらしいです（多いといっても、EUVリソグラフィーをやってる企業はTSMC・Sumsung・インテルの3社ですが)

露光装置のASMLは、ペリクル有り・ペリクルレスの両方に対応出来るそうです。この先、線幅が5nmになった場合はどうしてもEUV専用のペリクルが必要との事で、それを踏まえてASMLは昨年三井化学とEUV専用ペリクルのライセンス契約を締結しましたが余り株価に反映はなかったですね。

EUV用マスクが一般のマスクより、10分の1の平坦化・防塵が要求されるのもそういった理由からでしょう。