投稿一覧に戻る キヤノン(株)【7751】の掲示板 2024/02/17〜2024/03/04 134 snd***** 2月19日 14:14 ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」 数nm世代の最先端半導体には、オランダASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が必須─。そんな状況にキヤノンが風穴を開けた可能性がある。信じるか信じないかはあなた次第です。 そう思う47 そう思わない7 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する 証券取引等監視委員会に情報提供する ツイート 投稿一覧に戻る
ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」
数nm世代の最先端半導体には、オランダASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が必須─。そんな状況にキヤノンが風穴を開けた可能性がある。信じるか信じないかはあなた次第です。