6871.日本マイクロニクス（中長期ホルダー専用) 【売り煽り他入室不許可】の掲示板

\e$さん

特許情報ありがとうございます。

蓄電層-中間絶縁層-P型金属酸化物半導体層

グエラの中澤さんはP型金属酸化物半導体層の酸化ニッケル（湿式）を旧大阪市立工業研究所と
研究してきたとおり、キーはここにありそうですね。

混在層となるものが、効率よく作成できれば、放電容量を増やせる可能性がありますね。