投稿一覧に戻る 6871.日本マイクロニクス(中長期ホルダー専用) 【売り煽り他入室不許可】の掲示板 18940 inc***** 2016年3月17日 19:59 >>18922 大変貴重な情報ありがとうございます この出光興産の公開特許の0038~0039の記述は蓄電層の厚膜化に関するものでしょうか 気相中で蓄電機能を有する粒子を成長させるというのは興味深いですね 0038 特許文献1等で用いているペースト焼成法では蓄電層の厚膜化には制約があり、軽量ではあるが耐熱性の低いポリエチレンテレフタート(PET)等の樹脂基板等は使用できない。酸化物結晶を用いた蓄電デバイスの利便性と応用範囲を広げるためには、基板無加熱の条件で蓄電層を形成しなければならない。 0039 これを解決するために、気相中で蓄電機能を有する粒子を成長させた後に、基板上に薄膜として堆積する製膜法を用いる。 返信する そう思う96 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する ツイート 投稿一覧に戻る
inc***** 2016年3月17日 19:59
>>18922
大変貴重な情報ありがとうございます
この出光興産の公開特許の0038~0039の記述は蓄電層の厚膜化に関するものでしょうか
気相中で蓄電機能を有する粒子を成長させるというのは興味深いですね
0038
特許文献1等で用いているペースト焼成法では蓄電層の厚膜化には制約があり、軽量ではあるが耐熱性の低いポリエチレンテレフタート(PET)等の樹脂基板等は使用できない。酸化物結晶を用いた蓄電デバイスの利便性と応用範囲を広げるためには、基板無加熱の条件で蓄電層を形成しなければならない。
0039
これを解決するために、気相中で蓄電機能を有する粒子を成長させた後に、基板上に薄膜として堆積する製膜法を用いる。