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コロナの解析は、 阪大健康発達医学の中神のところでやったんでしょう。 彼が論文書いてるし、他の分析がまだ継続している事になってる。 本当に海外でやったのか疑問だらけ、、、 アンジェスらしいよ。
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.57-ーーー157.23.)))))・・・・・神解析ですね。。大勝ちです。。 一旦休憩、
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>また、RSIでのダイバージェンス効果が出現した時に、RCIで確認しながら、解析します。 この点、参考にしてみます。 ありがとうございます。
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6月11日の株主総会前に、ヒツジ塩素、ALSのIRがあればいい内容だろう。11日以降はニュートラルとしか言いようないが。 ただ、上半期にFDA協議、ALS中間解析といっても、IRの時期は上半期に縛られないと経営陣は考えてるだろうから、6月末までにIRない可能性もあるね。
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PSPは中間解析の約4ヶ月後に最終解析か。 ALSも同じようなスケジュールなら、6月くらいって考えてもいいのかな?笑
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私は質問②の、なお書き以下の文章を読んで、既にALSの最終解析データの取りまとめが行われていて、そろそろ開示することを暗示しているように感じました わざわざPSPの開示時期を振り返りしているくらいですから
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>48週最終解析データについては2024年中に公表する計画です。 近日中ではないんだ
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そもそもマスターズⅡ試験の中間解析からの症例数追加は有り得るとわかってたのに、アサーシス破産予告とともに150円くらいまで大幅下落したのがおかしかったような。アサーシス破産→マルチステムがただの水みたいな単純な連想ゲームの産物だと思う、いまの株価は。破産したとはいえ、画期的細胞医薬品の承認まであと少しのアメリカバイオ企業を保有してると冷静にどうして考えられないのか。目標株価引き上げたSBIも既存パイプラインの価値とか今さらかよ。
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豊田自動織機、水素製造でプラチナ使わず コスト2割減 2024年5月30日 16:32 豊田自動織機は30日、水素製造装置用の電極で、プラチナ(白金)やコバルトなどの希少金属を使わない技術を開発したと発表した。電池の開発技術を応用し、水素製造装置のコストを2割削減できると見込む。製造装置メーカーに電極を売り込み、2028年ごろの市場投入をめざす。 開発した製造装置用の電極は、ニッケル系の合金材料を使う。再生可能エネルギーの電気を使う水素製造装置は、稼働と停止を繰り返すことから耐久性が求められ、プラチナやコバルトが使用されていた。同物質は生産地域の偏在や高コストが課題だ。 豊田織機は、自動車向けのニッケル水素電池の開発や製造を手掛ける。水を電気分解して水素を作る過程は、電池の内部の反応と類似点があった。 水素製造装置向けの電極は、電池の材料の解析や製造技術を生かして劣化しにくい構造を作り、プラチナやコバルトを使う場合と同等の性能を実現した。 …これもちょっと影響してるのかな🤔
富士フイルム、ナノインプリント…
2024/06/01 08:47
富士フイルム、ナノインプリントレジストを発売 ナノインプリントリソ技術に適合 富士フイルムは、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を開発、2024年5月下旬より富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通じて販売する。 スピンコート法に比べ、レジスト使用量は約100分の1に 富士フイルムは2024年4月、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を開発、2024年5月下旬より富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通じて販売すると発表した。 ナノインプリントリソグラフィは、回路パターンが形成されたマスクをレジストが塗布されたウエハー上に押し当て、回路パターンを転写、形成する技術である。従来の露光工程で用いられてきたフォトリソグラフィとは異なり、露光に用いる複雑で高額となる光学系が不要で、現像工程など製造プロセス自体も簡素化できる。このため、従来に比べ装置の導入コストや消費する電力を削減できるという。 同社は今回、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面やマスクとの相互作用などを詳細に解析。この結果に基づき、ナノインプリントリソグラフィに最適な分子構造のレジストを新たに設計した。 開発したナノインプリントレジストは、回路パターンが形成されたマスクに均一かつ素早く充填できる。このため、ナノメートルレベルの回路パターンを正確かつ短時間で転写し、形成することが可能となった。また、UV照射で硬化させた後にマスクを高速で剥がしても、転写された回路パターンにダメージを与えない離型性を備えている。これによって、高いスループットと歩留まりを可能にした。 さらに、産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を活用し、ウエハー表面に適切な液滴量を塗布する方式を採用した。この結果、従来のスピンコート法に比べ、レジストの使用量を約100分の1に削減できるという。しかも、有機フッ素化合物群「PFAS」は含まれておらず、環境問題にも配慮した。 上記にあるようにナノインプリントの弱点と言われた離型時の回路パターンの欠損とスループット(生産性)の問題を完全に解決したことにより、ASLMのEUVを製造コストで圧倒することになりました。