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ipsはガン化の懸念もあるからね。おいそれと厚労省は承認しないでしょう。 製造過程の問題や均一性の問題など、指摘される項目が山ほど出る。 最近のサンバイオも頓挫してます。
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2024年2月20日 株式会社クボタ 株式会社栗本鐵工所 株式会社クボタ(本社:大阪市浪速区、代表取締役社長:北尾裕一、以下「クボタ」)と、株式会社栗本鐵工所(本社:大阪市西区、代表取締役社長:菊本一高、以下「栗本鐵工所」)は、原料を定流量供給*1するフィーダと原料を均一に混ぜ合わせる二軸混練機を組み合わせた「二次電池の電極スラリー向け連続式生産システム」の共同開発を開始しました。 今後、高効率の連続式生産システムを開発し、二次電池の安定供給に貢献していくことで、電動化の推進やカーボンニュートラル社会の実現をめざしてまいります。 1.背景とねらい 各国で脱炭素化に向けた取り組みが推進される中で、電気自動車(EV)などに使用される二次電池の需要が拡大しています。それに伴い、二次電池の電極の生産方式も現在主流のバッチ式生産*2から、より効率的な連続式生産*3への転換が進みつつあります。 二次電池の電極スラリーは活物質に導電助剤やバインダーなどの原料を混ぜ合わせてつくられ、均一に混ぜ合わせることで高い電池性能を得ることができます。そのため、原料をいかに安定的かつ連続的に計量・混練できるかが二次電池の品質と生産効率を左右する重要な要素となっています。 クボタは、さまざまな産業分野で原料を定流量供給する際に使用される「重量式フィーダ」に強みを持っています。一方、栗本鐵工所は、フィーダから供給された原料を短時間で均一に混練できる「連続式二軸混練機」で国内トップシェアを維持しています。そこで両社はお互いの知見を組み合わせ二次電池の電極スラリーに最適化した連続式生産システムの共同開発を開始しました。 今後、両社で二次電池の安定供給に貢献していくことで、電動化の推進やカーボンニュートラル社会の実現をめざしてまいります。 *1.設定した単位時間当たりの流量で連続して供給し続けること *2.原料計量、混練などの各工程が分離され断続的に生産する方式 *3.各工程が繋がり連続的に生産する方式
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サムスンでも あかんもんがな ビジョノックスにできるんか eLEAP方式 = VIP方式 早速なパクリやしな 呆れるで > サムスンディスプレイは第8世代の垂直蒸着OLEDの > 研究開発ラインを終了し、ULVACは装置を撤去 > 2024-04-08 Wit Display > WitDisplayの情報によると、装置メーカーであるULVACは、京畿道平泽(ヒョンゴク)工場に設置されていた第8世代の垂直OLED蒸着装置を撤去しました。この装置は、サムスンディスプレイとULVACの共同投資によって製造され、垂直蒸着プロセスを検証するためのものでした。業界関係者は、韓国で将来的に垂直蒸着技術を大規模に導入することはほとんど不可能であり、このプロジェクトは完全に中止されたと解釈されています。 > > 蒸着技術は、OLEDの歩留まりと生産能力を制約しています。精密金属マスク(FMM)の配置方向によって、蒸着工程は水平蒸着と垂直蒸着に分けることができます。現在、主流のOLED工程には、水平蒸着+FMM(Fine Metal Mask)LTPS OLED、水平蒸着+OMM(Open Metal Mask)WOLED、水平蒸着+OMM QD OLEDなどがあります。 > > しかし、水平蒸着工程は完璧ではなく、常に「重力による垂れ下がり」の技術的な制約が存在しています。FMMは超薄な金属マスクであり、水平に配置されると、重力の影響でFMMの中央と端にわずかなオフセットが生じ、FMMのサイズが大きくなるにつれてオフセットがより顕著になります。これはAMOLEDのPPIを向上させることを阻害し、混色歩留まりを低下させ、AMOLEDの生産コストが大幅に増加します。 > > 一方、垂直蒸着工程の最大の利点は、水平蒸着工程におけるFMMの「重力による垂れ下がり」による影響を回避できることです。垂直蒸着工程では、FMMを垂直に配置し、FMMとガラス基板の変形が少なくなり、蒸着がより均一になり、ピクセル位置の精度(PPA)が向上し、混色が小さくなり、同時に解像度を向上させ、消費電力とコストを低減し、重要な蒸着工程の方向性となっています。 > > 現在、JDIのみが低世代の量産ラインで垂直蒸着工程を持ち、主に時計用のOLEDを生産しています。JDIによれば、垂直蒸着装置は水平蒸着装置に比べて設置面積が30%少なくなります。また、業界関係者はWitDisplayに対し、JDIが供給するApple Watch用のOLEDも垂直蒸着工程で製造されていると述べています。 > > FMMが水平から垂直位置に変わると、「超薄平板中心での凹み」の重力効果は基本的に消えるでしょう。ただし、報道によれば、「業界には垂直蒸着の経験がない」とも指摘されており、垂直蒸着方式は、材料、装置、およびOLEDマスクでの力学的な点で、さまざまな新しい課題が存在している可能性があります。
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6000株で株主優待パスを貰って、市内中央部を通学や通勤に使用する。エリア内なら広電電車バスは乗り放題。 株価が下がらずに運賃が上がるとか、パスピーができる前は良かったかもしれませんね。 株主優待パスは魅力的に見えるけど、株価が100円下がったら600,000円溶かすからリスクが高すぎる。 今ある広島シティパスはエリア内どこの会社にも使用可能で12か月は通勤で99,600円、通学で72,000円×6年=432,000円。 現在市内中央部は220円均一運賃、パスピーを使用すると運賃は200円になる。還元率は最大10%!素晴らしい!新しい乗車システムも同様の還元率かな? 10人乗ったら11人目は無料…なのに一株の配当は6円だから資金が溶ける方が早い? これも地球温暖化の影響なのか?
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時間のある方は下記の記事を読んでいただければと思います。我が国のキヤノン、富士フイルム連合でASMLを追撃、無力化する可能性もあり得るということが理解出来るのではないでしょうか。 技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料 ナノインプリントレジスト新発売 ニュースリリース 2024年4月30日 半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料 ナノインプリントレジスト新発売 最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献 富士フイルム株式会社(本社:東京都港区、代表取締役社長・CEO:後藤 禎一)は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社(本社:神奈川県横浜市、代表取締役社長:小林 茂樹)を通じて販売します。 5G/6Gによる通信の高速・大容量化、自動運転の拡大、AIやメタバースの普及などを背景に、半導体の需要拡大と高性能化が見込まれています。昨年、高性能な先端半導体を低コスト・省電力で製造できる新しい製造技術として「ナノインプリントリソグラフィ」が実用化。「ナノインプリントリソグラフィ」は、半導体製造に用いるウエハー上のレジストに、回路パターンが刻み込まれたマスク(型)をハンコのように押し当てて回路パターンを転写・形成する技術で、半導体製造で広く使用されているフォトリソグラフィと異なって現像工程やリンス工程がなく、露光に用いる複雑な光学系も不要です。特に、高額な露光装置の導入など、投資がかさむ先端半導体分野では、フォトリソグラフィと比べてより低コスト、省電力で高性能な半導体を製造できるメリットを大きく享受できることから、「ナノインプリントリソグラフィ」の普及・拡大に期待が高まっています。 今回発売するナノインプリントレジストは、当社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計したものです。当社のナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、UV照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない優れた離型性を発揮します。これにより、「ナノインプリントリソグラフィ」の実用化に向けた課題であった、スループット(時間当たりのパターニング処理能力)向上と低欠陥による歩留まり改善を可能にし、先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献します。 また、当社が産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を生かして、ウエハー表面に無駄なく最適な液滴量をインクジェット方式で塗布できる処方設計を実現。現在の製造プロセスで用いられるスピンコート法※1と比較して、レジストの使用量を約1/100に削減※2できます。今回発売するナノインプリントレジストは、環境や生態系への影響懸念から使用規制の動きが進む有機フッ素化合物群「PFAS」を含んでいません。 今後、当社はナノインプリントレジストの販売をとおして、最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献する新しい半導体製造技術の普及・拡大を推進していきます。 当社は、フォトレジストやプロセスケミカル、ポリイミドなど半導体製造の前工程から後工程までのプロセス材料や、イメージセンサー用カラーフィルター材料をはじめとしたWave Control Mosaic(WCM)を展開し、最先端から非先端まで「ワンストップソリューションを提供する半導体材料メーカー」として、半導体顧客ニーズへの対応、課題解決に取り組んでいます。今回最先端の微細化に対応したナノインプリントレジストをラインアップに加え、これらの幅広い製品の提供と新しい製造技術に適合した製品開発により、半導体産業のさらなる発展に貢献していきます。 ※1 レジストをウエハー上に滴下し、ウエハー高速回転させることでレジスト薄膜を作製する方法。 ※2 当社による試算。 お問い合わせ
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ここは 裏付けされた 話が 少ない 言いぱなし 無責任言動 意味ないじゃん 世界初、垂直ブリッジマン法による6インチβ型酸化ガリウム単結晶の作製に成功 今回開発を進めているVB法の概要を図1(b)に示します。VB法は、原料を格納した坩堝(るつぼ)を温度勾配のある炉内に格納し、原料を溶融させた後に坩堝を引き下げて凝固させる育成方法です。よって、坩堝と同じ形の結晶が得られるため、円筒形の坩堝を使えば円筒形の結晶が得られ、基板化加工の際の不要部分が大幅に少なく、低コスト化が可能となります。さらに、引き上げ法による育成と異なり、坩堝内の融液を凝固させる育成法であるため、結晶の異方性に起因する成長面の制約を受けにくく、さまざまな基板の面方位を作製可能であり、EFG法の課題を解決できると期待されます。それに加え、引き上げ法と比較して温度勾配が小さい環境での育成が可能であるため、結晶の高品質化が可能であることや、結晶成長方向に対して垂直に基板を取得できるためにドーパント濃度の面内均一性の向上が期待できるといった特長もあります。 「X線トポグラフィー法」という結晶欠陥評価手法を用い、VB法とEFG法を用いて育成した単結晶基板の品質を、産業技術総合研究所で評価した。この結果、EFG法で作製した基板には、直線状欠陥が高密度に発生していた。これに対しVB法で作製した基板には、直線状欠陥がほぼ発生していないことを確認した。 無知な空売り機関投資家諸君は 多分理解出来ない
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5月21日のヤフーニュースの内容です。 ダイキョーニシカワは長尺で3次元屈曲に対応し、締結部を一体成形できる樹脂パイプの製造技術を確立した。同社が量産する樹脂一体パイプの2倍以上となる長さ1700ミリメートル超でも、先端から終端まで内径を均一にした中空パイプを実現できる。自動車の電動化に伴い、電池や駆動部周辺の冷却配管は増え、形状の複雑化が進むと想定。軽量化とコストダウンを訴求し、3年以内の量産を目指して提案を本格化する。 新技術では成形時の金型内で固化していない状態のパイプに、ガス圧を用いて樹脂玉(フローティングコア)を押し出して、均一断面の中空を形成する。 ダイキョーニシカワは現在、パイプ内部にガスを注入して中空を作るガスアシスト成形で樹脂一体パイプを製造するが、安定した中空を確保できる長さには限界があった。一方で電動化が進展すれば、冷却部位が増えて車内の配管レイアウトが複雑化すると見込まれるため、長尺化に対応する製造技術の確立は課題だった。 同社は従来のステンレス製パイプを樹脂製に置き換えることで、重量を3割低減し、コストは2割抑えられると試算。締結部を一体で成形できる樹脂パイプは、製造工数や部品点数でもメリットが見込まれる。また、既存の樹脂一体型パイプ量産ラインは、成形から梱包までを無人化する完全自動化ラインを確立し、端材を活用して工程内の廃材ゼロを実現。生産性や環境配慮の面でも、採用を後押しできると見ている。
ガン化を防ぐ技術が確立したか…
2024/05/28 16:23
ガン化を防ぐ技術が確立したから、多方面で、IPS細胞の治験が始められている。 クオリプスは自社で製造しているから問題ないどころか、他社へ売り出そうとしている。 サンバイオは他社へ製造を委託したから、未だに承認を得られていない。 クオリプスのIPS細胞の世界初の実用化を静かに見守りたい。 サンバイオも均一性、同質性の問題をなるべく早く解決してもらいたものだ。 > ipsはガン化の懸念もあるからね。おいそれと厚労省は承認しないでしょう。 > 製造過程の問題や均一性の問題など、指摘される項目が山ほど出る。 > 最近のサンバイオも頓挫してます。