4,253
+4(0.09%)-
- 前日終値
- 4,249（06/23）
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- 始値
- 4,265（09:00）
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- 高値
- 4,292（09:03）
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- 安値
- 4,230（12:48）
掲示板「みんなの評価」
- 強く買いたい
- 買いたい
- 様子見
- 売りたい
- 強く売りたい
直近1週間でユーザーが掲示板投稿時に選択した感情の割合を表示しています。
掲示板のコメントはすべて投稿者の個人的な判断を表すものであり、
当社が投資の勧誘を目的としているものではありません。
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366（最新）
予想通り笑
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マルチビームマスク描画装置がスポットライト浴びるのはまだ先よ。
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364
じゃ、今日たんまり空売り入れたな。
大儲けだな。
羨ましいわ。 -
363
さぁ明日から暴落やわ爆
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362
..j23...
様子見
6月24日 12:13
現物ホールドでじっくり行きましょう・・
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361
需給悪化で一生上がりまへん笑
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360
ASML,レーザーテックが強いですね。
同じくEUV関連の日本電子ですが・・・ -
359
マイ転やな爆
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358
今日は５円くらい上がるか？笑
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357..j23...
様子見
6月23日 13:50
SPIE , 21 - 25 September 2025
Monterey, California, US
Electron multi-beam mask writing (MBMW): Vision, proof-of-concept, realization, and sub-10A (Plenary Presentation)
24 September 2025 • 8:00 AM - 8:40 AM PDT
..... Early in 2012, an electron mutli-beam Proof of Concept tool showed 0.1nm address grid 30nm-pattern writing with 262-thousand 20nm-sized ebeams. JEOL joined to provide an air-bearing vacuum stage, enabling full mask field writing. MBMW Beta tools fulfilled industrial needs. IMS with CEO Elmar Platzgummer was defined to become HVM tool vendor: 2016 MBMW-101 / 7nm, 2019 MBMW-201 / 5&3nm, 2023 MBMW-301 with 590-thousand programmable ebeams / 2nm and below, 2025 MBMW-401 for 10A and below chip nodes. Further prospects of MBMW tool developments will be presented.
Presenter Hans Loeschner
IMS Nanofabrication GmbH (Austria) -
356..j23...
様子見
6月23日 12:17
40th European Mask and Lithography Conference
June 16th – June 18th, 2025 Dresden (Germany)
MBMW-401 for sub-2nm EUV Masks
Johannes Leitner, Christoph Spengler, Peter Hudek, Hans Loeschner, Elmar
Platzgummer / IMS Nanofabrication GmbH, Brunn am Gebirge (Austria) -
355
下げっぷりは立派！
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あと何ヶ月かかるかなぁ
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353
4300ピッタリ
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352
落ちるか～
ここは読めない -
351
日本電子の稼ぎ頭はマルチビーム描画装置。
その需要はASMLによるEUV露光装置の販売台数に比例します。
同じくEUV関連であるレーザーテックは、株価上昇が始まったようです。 -
350
何回連続で投稿すんねん。
売り一択ならこの銘柄で空売りして出た利益をスクリーンショットであげたら。 -
349..j23...
様子見
6月17日 14:00
GoogleAI による検索
（tsmc フォトマスク マルチビーム 導入）
TSMCの状況:
TSMCは、最先端の半導体製造技術を追求しており、マルチビーム露光装置の導入は、微細化の進展に対応するための重要な戦略です。
特に、EUV露光技術を用いた半導体製造においては、EUVフォトマスクの描画にマルチビーム露光装置が不可欠です。
TSMCは、自社でのフォトマスク製造だけでなく、外部のフォトマスクメーカーとも連携し、安定的な供給体制を構築しています。
結論:
TSMCがマルチビーム露光装置を導入することで、半導体製造におけるフォトマスクの描画時間を短縮し、高精度なパターン形成を可能にすることで、次世代半導体の開発・製造を加速させることが期待されます。 -
347
アドバンテストと芝浦は高値に戻りましたなここはこれから更に需給悪化してズドーンやわ爆
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346
堕ちるのは早いからなぁここは笑
af6*****
ジェットストリーム一択
yo1*****
zinc
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