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エピタキシャル成長(Epitaxial Growth)とは、単結晶基板の上に、基板と同じ結晶構造を持つ層を成長させる技術。この方法で成長させた層を「エピタキシャル層」や「エピ層」と呼びます。 半導体デバイスの製造においては、以下のような目的でエピタキシャル成長が用いられます: 1. 基板の結晶品質を向上させる。 2. 基板とは異なる不純物濃度や伝導型の層を形成する。 3. 多層構造を作製し、デバイスの性能を向上させる。 SiCウェハーの場合、エピタキシャル成長は主にCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法で行われます。原料ガスを高温のSiCウェハー表面で反応させ、エピ層を成長させます。 エピ成長技術は、SiCデバイスの性能を左右する重要な要素の一つであり、ウェハーの品質評価においても欠かせない工程となっています。溶液法ウェハーがエピ成長に適していることが確認されれば、デバイス応用への道が大きく開けることになります。
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グリーンイノベーション基金事業/次世代デジタルインフラの構築プロジェクト 2024年度 WG報告資料 2024年 4月24日 IoT推進部 研究開発項目2:次世代パワー半導体に用いるウェハ技術開発 取組状況 •大口径化・長尺化に取組み、溶液流れや溶液温度分布等をプロセスインフォマティクス技術を適用して最適化することで、直径8インチ×厚さ8mmのSiC結晶が得られた。(株式会社オキサイド) •溶液法特有の課題であるインクルージョンについては、シミュレーションによる発生メカニズム解析を終え、AIにデータを引き継ぐことで結晶育成パラメータの最適化を行うことが可能となった。もう一つの溶液法特有の課題であるCr汚染については、実際にエピ成長させて評価した結果、濃度は測定器の検出下限以下で、かつCV特性にも影響がないことを実証。(株式会社オキサイド) •大口径ウェハ用ラインの開発に向け、8インチSiCウェハの詳細な加工工程フロー(第1次案)を作成し、加工ラインに必要な各装置の仕様を決定。選定した装置が計画通り集約。(Mipox株式会社) •デバイス(MOS-FET)評価を早期に実施するため、計画を当初から3年前倒し、2025年度中に溶液法ウェハ上にエピ膜およびMOSーFETを形成して特性評価し、昇華法と同等以上の成長膜およびデバイスが形成できることを確認するように研究実施計画を見直した。 NEDO委員からの助言 •溶液状態の制御を高度化することで8インチへと大口径化しても十分に成長技術としてポテンシャルがあることは実証できている。 •今回、最近の動向も反映され、SWOT分析、5F分析などが成され、戦略が明確になった。 •デバイスメーカーとの連携によって,先行して溶液法ウェハのクオリティの評価を始めている点はとても重要。思わぬ欠点がないのかどうか,慎重に点検をして頂きたく,面内型でよいのでトランジスタ特性までを早い段階で確認,比較を進めて頂きたい。 •溶液法の価値をより上げていくために、昇華法では達成できない品質スペックを標準化したり、環境価値などの新しい価値の軸を設定したりして、標準化に組み込むなども要検討。
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ひつじさんは、他人に厳しく自分には極めて優しい ww ひつじさんの現役時代のエピの一つでも貼ってみ。 何を成し遂げたんだ ???
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最初の親友と離れるエピは微妙だけど、国の事情に巻き込まれだしたら面白いよ。 NHK放送なだけあって見やすく作られてるからアニメで流し見したらいいよ。
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ジャギさんエピ買ったのムーミンさんって知ってましたか?
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この岡山大学研究報告だってそんなの解ってます、解りきってす。 効果に疑問があるなら保険適用されるわけねーじゃん。 この研究報告だってソレイジアがそれなりの経費負担して実施したんだろ。 実施した結果、"岡山大ではエピシルを使ってやらんこともい。"で終わりだろ。 ソレイジアの従業員、会社の業績にかかわらず超高給なので羨ましい限りです。
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そもそもエピシルは歯科しか処方できないから、普及しにくいんですよね。化学療法やってる歯科なんて基幹病院の一部の歯科だけだし。しょぼい薬ばかり導出しても、企業価値は上がりません。センスなさ過ぎ。ソレイジアはもっと頑張ってください。
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お久しぶりです!ご健在で良かったです エピシルの有効性って数字だけではなく手っ取り早さも売りだと思っています 明治は口腔粘膜炎の標準治療としてエピシルが使われるように企業努力するべきですよね また朱雀砲の発動待ってます(他力本願のつもりはないのであしからず)
バナナなのに掘られそうになった…
2024/05/20 22:28
バナナなのに掘られそうになったエピチラ見してましたw