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三井化学<4183.T>露光用CNTペリクルを量産化、岩国大竹工場を増強(日刊工業12面)
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三井化学<4183.T>は28日、半導体の更なる微細化、生産性向上に不可欠な次世代の高NA、高出力EUV露光装置に対応したEUV露光用CNT(カーボンナノチューブ)ペリクルの生産設備を、岩国大竹工場(山口県和木町)に設置することを決定したと発表した。 ペリクルとは、半導体ウェハーに光を照射して回路パターンを描くフォトリ ソグラフィ工程で、各露光波長に対して耐光性のある膜材料を選択し、高い透過率を得られるように膜厚設計したフォトマスク用防塵カバー。新設備は25年12月の完工を予定し、生産能力は年間5000枚を計画する。 28日終値は、前日比81円高の4777円。 [ 株式新聞ニュース/KABDAS-EXPRESS ] 提供:ウエルスアドバイザー社 (2024-05-29 08:42) ブラックロック関連銘柄
これはどうなんですか? 「次…
2024/06/16 07:13
これはどうなんですか? 「次世代露光装置用「CNTペリクル」三井化学が量産」 三井化学は半導体製造用の次世代露光装置で使われるカーボンナノチューブ(CNT)ペリクルを量産する。岩国大竹工場(山口県和木町)に生産設備を設け、2025年12月に完工する予定。生産能力は年5000枚で、投資額は非公表。拡大する先端半導体需要に対応する。 ペリクルはフォトマスク(半導体回路の原版)の表面に装着する薄い保護膜。傷やホコリを付きにくくする機能を持ち、露光工程の生産性を向上できる。 人工知能(AI)などの活用が加速するとみられる中、データ処理を担う半導体は高速処理能力化や低消費電力化が求められている。このため回路線幅の超微細化ニーズが高まっており、微細化回路形成用の極端紫外線(EUV)露光技術の採用が本格的に拡大している。 三井化学はEUV露光の環境に対応する高い透過性や耐光性を持つCNTペリクルの事業化により、こうしたニーズに対応する。