連結子会社ホロンによるフォトマスク欠陥修正技術の研究成果発表に関するお知らせ
当社連結子会社の株式会社ホロン(以下、「ホロン」)は、収差補正SEMを活用したフォトマスク欠陥修正技術に関する研究成果を、2026年9月8日から11日に米国カリフォルニア州モントレーで開催されているフォトマスク技術分野の国際学会「SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026」において発表いたしました。
ホロンでは、CD-SEMで培ってきた電子光学技術を応用し、収差補正機能を備えたSEMカラムを搭載したフォトマスク欠陥修正装置の開発を進めており、今回の発表は当該開発において得られた研究成果の一部を示すものです。
近年、フォトマスク欠陥修正技術は、フォトマスクの歩留まり向上において重要な役割を担っており、リソグラフィ性能向上を目的とした曲線パターン(Curvilinear Pattern)の採用拡大などを背景として、より高い修正精度や形状忠実性が求められています。
当社グループは今後も、電子ビーム応用技術のさらなる高度化を通じて、半導体関連分野における新たな価値創出に取り組んでまいります。
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