富士フイルム、半導体材料ナノインプリントレジストを発売

　富士フイルム <4901> は４月３０日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを５月下旬から、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通じて販売すると発表した。

　今回発売するナノインプリントレジストは、同社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計した。ナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、ＵＶ照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない離型性を発揮するという。

　１日の終値は、前日比８円安の３３６９円。

提供：ウエルスアドバイザー社