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富士フイルムは30日、最先端の半導体製造装置で使う材料を5月下旬からキヤノンに販売すると発表した。「ナノインプリント技術」を駆使した装置で、人工知能（AI）や自動運転などの広がりで需要拡大が見込まれている。富士フイルムは半導体材料事業の成長につなげる。
富士フイルムの子会社で、電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（横浜市）を通じて販売する。生産は同社の静岡工場（静岡県吉田町）で5月からはじめる。
「ナノインプリントレジスト」と呼ばれる半導体材料をキヤノンに納入する。半導体製造に用いるウエハーに塗布し、回路パターンが刻み込まれた型をハンコのように押し当てて、回路パターンを転写する工程で使う。
ナノインプリント技術を搭載した半導体製造装置はキヤノンが世界で初めて実用化し、2023年10月から発売している。これまで普及してきた製造手法と比べて、低コストや省電力で生産できる強みがある。現状で製造販売するのはキヤノンのみだ。
富士フイルムは従来の半導体製造工程で使う材料の「フォトレジスト」で世界で一定のシェアを持つ。半導体材料をグループの成長の柱と位置づけており、27年3月期の売上高で3000億円と、25年3月期見通しの2400億円から25%増やす方針を掲げている。新しい製造工程にも対応する材料をいち早く販売することで事業成長を目指す。

キヤノン、富士フィルム連合でASMLを追撃、無力化するという日本の半導体事業の世界復権を担う一大プロジェクトが始まります、

日証協発表の3300万9363株の貸し株と3000万株近い自社株買いが残っています。サムスン、TSMC,インテルのいずれかがナノインプリントの採用を検討するか採用するとかいうリリースが出たらどうなるでしょうか。個人的には非常に興味をもっています。

時間のある方は下記の記事を読んでいただければと思います。我が国のキヤノン、富士フイルム連合でASMLを追撃、無力化する可能性もあり得るということが理解出来るのではないでしょうか。


技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料 ナノインプリントレジスト新発売
ニュースリリース
2024年4月30日
半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料
ナノインプリントレジスト新発売
最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献

富士フイルム株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長・CEO：後藤 禎一）は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社（本社：神奈川県横浜市、代表取締役社長：小林 茂樹）を通じて販売します。

5G/6Gによる通信の高速・大容量化、自動運転の拡大、AIやメタバースの普及などを背景に、半導体の需要拡大と高性能化が見込まれています。昨年、高性能な先端半導体を低コスト・省電力で製造できる新しい製造技術として「ナノインプリントリソグラフィ」が実用化。「ナノインプリントリソグラフィ」は、半導体製造に用いるウエハー上のレジストに、回路パターンが刻み込まれたマスク（型）をハンコのように押し当てて回路パターンを転写・形成する技術で、半導体製造で広く使用されているフォトリソグラフィと異なって現像工程やリンス工程がなく、露光に用いる複雑な光学系も不要です。特に、高額な露光装置の導入など、投資がかさむ先端半導体分野では、フォトリソグラフィと比べてより低コスト、省電力で高性能な半導体を製造できるメリットを大きく享受できることから、「ナノインプリントリソグラフィ」の普及・拡大に期待が高まっています。

今回発売するナノインプリントレジストは、当社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計したものです。当社のナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、UV照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない優れた離型性を発揮します。これにより、「ナノインプリントリソグラフィ」の実用化に向けた課題であった、スループット（時間当たりのパターニング処理能力）向上と低欠陥による歩留まり改善を可能にし、先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献します。
また、当社が産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を生かして、ウエハー表面に無駄なく最適な液滴量をインクジェット方式で塗布できる処方設計を実現。現在の製造プロセスで用いられるスピンコート法※1と比較して、レジストの使用量を約1/100に削減※2できます。今回発売するナノインプリントレジストは、環境や生態系への影響懸念から使用規制の動きが進む有機フッ素化合物群「PFAS」を含んでいません。
今後、当社はナノインプリントレジストの販売をとおして、最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献する新しい半導体製造技術の普及・拡大を推進していきます。

当社は、フォトレジストやプロセスケミカル、ポリイミドなど半導体製造の前工程から後工程までのプロセス材料や、イメージセンサー用カラーフィルター材料をはじめとしたWave Control Mosaic（WCM）を展開し、最先端から非先端まで「ワンストップソリューションを提供する半導体材料メーカー」として、半導体顧客ニーズへの対応、課題解決に取り組んでいます。今回最先端の微細化に対応したナノインプリントレジストをラインアップに加え、これらの幅広い製品の提供と新しい製造技術に適合した製品開発により、半導体産業のさらなる発展に貢献していきます。

※1 レジストをウエハー上に滴下し、ウエハー高速回転させることでレジスト薄膜を作製する方法。
※2 当社による試算。
お問い合わせ

ナノインプリントは現状主要な半導体メーカーが導入を目指してカスタマイズ中だと思います。富士フイルムが開発したナノインプリント用のレジストで、ナノインプリントの最大のウイークポイントと言われた離型時の欠損とスループットの低さが解消されることにより一気に導入の勢いが強まると予想されます。
EUV露光装置と比べて圧倒的に低い生産コストが見込まれることから、半導体メーカーにとってはまさに死活問題になります。
期待しましょう。

>>No. 507

貴方は一体キヤノンに何を期待しているんですか？

>>No. 490

そのニュースが出た時に言って頂けますか。

TSMC、サムスン、インテルの内いずれかの社が「ナノインプリントの導入を検討」のニュースで株価10000円超え、「導入決定」のニュースで15000円を超えてくると思いますけどね。

ナノインプリントに関する何らかのリリースがあるんじゃないの‼️TSMCあたりが採用を決めたりしたら大変なことになるんだけどね。

客室単価の上昇と稼働率の上昇で今6月期の大幅な上方修正は間違いありません。8月の第3週に予定されている決算発表のサプライズに期待しましょう。

ナノインプリントレジスト新発売
最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献

富士フイルム株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長・CEO：後藤 禎一）は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社（本社：神奈川県横浜市、代表取締役社長：小林 茂樹）を通じて販売します。

5G/6Gによる通信の高速・大容量化、自動運転の拡大、AIやメタバースの普及などを背景に、半導体の需要拡大と高性能化が見込まれています。昨年、高性能な先端半導体を低コスト・省電力で製造できる新しい製造技術として「ナノインプリントリソグラフィ」が実用化。「ナノインプリントリソグラフィ」は、半導体製造に用いるウエハー上のレジストに、回路パターンが刻み込まれたマスク（型）をハンコのように押し当てて回路パターンを転写・形成する技術で、半導体製造で広く使用されているフォトリソグラフィと異なって現像工程やリンス工程がなく、露光に用いる複雑な光学系も不要です。特に、高額な露光装置の導入など、投資がかさむ先端半導体分野では、フォトリソグラフィと比べてより低コスト、省電力で高性能な半導体を製造できるメリットを大きく享受できることから、「ナノインプリントリソグラフィ」の普及・拡大に期待が高まっています。

今回発売するナノインプリントレジストは、当社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計したものです。当社のナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、UV照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない優れた離型性を発揮します。これにより、「ナノインプリントリソグラフィ」の実用化に向けた課題であった、スループット（時間当たりのパターニング処理能力）向上と低欠陥による歩留まり改善を可能にし、先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献します。
また、当社が産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を生かして、ウエハー表面に無駄なく最適な液滴量をインクジェット方式で塗布できる処方設計を実現。現在の製造プロセスで用いられるスピンコート法※1と比較して、レジストの使用量を約1/100に削減※2できます。今回発売するナノインプリントレジストは、環境や生態系への影響懸念から使用規制の動きが進む有機フッ素化合物群「PFAS」を含んでいません。
今後、当社はナノインプリントレジストの販売をとおして、最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献する新しい半導体製造技術の普及・拡大を推進していきます。

富士フイルムのナノインプリント用の新たなレジスト開発によりキヤノンのナノインプリント露光装置はASLMのEUV露光装置をアウトパフォームすることになりました。

アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したＴＳＭＣのケビン・チャン上級副社長はＡＳＭＬの高ＮＡ（開口数）極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高ＮＡ・ＥＵＶの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは１台３億5000万ユーロ（約590億円）

一台５９０億円で半導体製造時には莫大な電力を消費するASLMのEUV露光装置と、一台１００億円にも満たない消費電力10分の1のナノインプリント。
軍配はどちらに上がるでしょうかね。

今6月期は経常利益55億円、純利益55億円でEPS円377円が予想されます。インバウンドの勢いから一気に5000円を超えてくるんじゃないでしょうか。

>>No. 279

ＡＳＭＬの最先端半導体製造装置、高過ぎる－ＴＳＭＣの購入時期不明
5/15(水) 13:38配信

Bloomberg
Bloomberg

（ブルームバーグ）： オランダの半導体製造装置メーカー、ＡＳＭＬホールディングの最先端機器は極めて高額との認識を、同社最大級の顧客企業である台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）が14日示した。

アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したＴＳＭＣのケビン・チャン上級副社長はＡＳＭＬの高ＮＡ（開口数）極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高ＮＡ・ＥＵＶの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは１台３億5000万ユーロ（約590億円）。

ＡＳＭＬは最も高度な半導体を製造するために必要な装置を製造する唯一の企業で、同社の製品に対する需要は業界の健全性を示す指標となっている。

米インテルはすでに高ＮＡ・ＥＵＶ露光装置をＡＳＭＬに発注。同社は昨年12月下旬、オレゴン州にあるインテル工場向けに最初の１台を出荷した。しかし、半導体の受託生産で世界最大手のＴＳＭＣが同装置の購入をいつ開始するかのはまだ明らかではない。

原題：TSMC Says ASML’s Most-Advanced Chip Machines Are Too Expensive　（抜

キヤノンとナノインプリントを実用化させた大日本印刷、キヤノンにナノインプリント用のレジストを提供する富士フイルムHD、この３社をナノインプリント三兄弟と言ってもいいと思いますが今年中にそれぞれが大台を替えてくるのではないでしょうかね。

https://youtu.be/bXA9QNpjK08

今月からキヤノンに納入開始するナノインプリント用のレジストの売り上げだけでも今後1000億を超えると思いますけどね。

4月30日に富士フイルムのナノインプリント用のレジストをキヤノンに納入することがリリースされました。急速な離型時にも欠損がなくなることから莫大な設備投資費用と莫大な電力消費を必要とするASMLのEUV露光装置を完全に凌駕することになりました。韓国のSKハイニクスは既に採用を決めていますがサムスンやTSMC、インテルが採用するというニュースが出れば一気大台を替えてくるでしょうね。

今月から富士フイルムがキャノンに納入するナノインプリント向けのレジストは、ナノインプリントの最大の弱点といわれる離型時の回路パターンの欠損と、離型時間の長さからくるスループット（生産性）の悪さを同時に解決するまさに画期的な材料です。ナノインプリントはASMLのEUV露光装置と比べて一桁安くしかも光学系の関連装置も必要がなく、消費電力も10分の1程度ということもあってキャノン、富士フイルム連合でASMLを追撃、凌駕していくのではないでしょうか。

昨年5月のニュース

SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。

今日のニュース

韓国のＳＫハイニックスは、人工知能（ＡＩ）開発に不可欠な半導体の需要急増に乗じようと、７－９月（第３四半期）に次世代半導体メモリーの量産開始を目指している。
　ＳＫハイニックスは発表文で、高帯域幅メモリー（ＨＢＭ）の2025年の生産能力は受注でほぼ埋まったことを明らかにした。ＡＩサービスの世界的ブームを浮き彫りにした。
　同社は先月、約146億ドル（約２兆3000億円）を投じて韓国内に新たな半導体メモリー製造拠点を建設する計画を発表。ＡＩプラットフォーム作成などでエヌビディア製アクセラレーターと連携する半導体の需要急増に対応する準備を進めている。

いよいよ始まりますよ。

以下に全文を載せますがナノインプリントの最大の課題であったスループットの問題が解決されたことによりASLMのEUV露光装置を完全に捕らえました。

富士フイルム株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長・CEO：後藤 禎一）は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社（本社：神奈川県横浜市、代表取締役社長：小林 茂樹）を通じて販売します。

5G/6Gによる通信の高速・大容量化、自動運転の拡大、AIやメタバースの普及などを背景に、半導体の需要拡大と高性能化が見込まれています。昨年、高性能な先端半導体を低コスト・省電力で製造できる新しい製造技術として「ナノインプリントリソグラフィ」が実用化。「ナノインプリントリソグラフィ」は、半導体製造に用いるウエハー上のレジストに、回路パターンが刻み込まれたマスク（型）をハンコのように押し当てて回路パターンを転写・形成する技術で、半導体製造で広く使用されているフォトリソグラフィと異なって現像工程やリンス工程がなく、露光に用いる複雑な光学系も不要です。特に、高額な露光装置の導入など、投資がかさむ先端半導体分野では、フォトリソグラフィと比べてより低コスト、省電力で高性能な半導体を製造できるメリットを大きく享受できることから、「ナノインプリントリソグラフィ」の普及・拡大に期待が高まっています。

今回発売するナノインプリントレジストは、当社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計したものです。当社のナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、UV照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない優れた離型性を発揮します。これにより、「ナノインプリントリソグラフィ」の実用化に向けた課題であった、スループット（時間当たりのパターニング処理能力）向上と低欠陥による歩留まり改善を可能にし、先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献します。
また、当社が産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を生かして、ウエハー表面に無駄なく最適な液滴量をインクジェット方式で塗布できる処方設計を実現。現在の製造プロセスで用いられるスピンコート法※1と比較して、レジストの使用量を約1/100に削減※2できます。今回発売するナノインプリントレジストは、環境や生態系への影響懸念から使用規制の動きが進む有機フッ素化合物群「PFAS」を含んでいません。
今後、当社はナノインプリントレジストの販売をとおして、最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献する新しい半導体製造技術の普及・拡大を推進していきます。

当社は、フォトレジストやプロセスケミカル、ポリイミドなど半導体製造の前工程から後工程までのプロセス材料や、イメージセンサー用カラーフィルター材料をはじめとしたWave Control Mosaic（WCM）を展開し、最先端から非先端まで「ワンストップソリューションを提供する半導体材料メーカー」として、半導体顧客ニーズへの対応、課題解決に取り組んでいます。今回最先端の微細化に対応したナノインプリントレジストをラインアップに加え、これらの幅広い製品の提供と新しい製造技術に適合した製品開発により、半導体産業のさらなる発展に貢献していきます。

※1 レジストをウエハー上に滴下し、ウエハー高速回転させることでレジスト薄膜を作製する方法。
※2 当社による試算。
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報道関係
富士フイルムホールディングス株式会社
コーポレートコミュニケーション部 広報グループ