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投稿コメント一覧 (5401コメント)

  •  現在、製油所、化学工場などのプラントは、より安全性の高いプラント運営が求められています。そのため、保安四法等により指定された法定点検に加えて、異常の早期発見、予兆管理に資する高度な点検技術の開発、導入が進められています。

      NECは、AIを活用したプラント向けの異常予兆検知を行うシステムを、国内最大の原油処理能力を有するJXTGエネルギー水島製油所(岡山県倉敷市)のボイラー設備へ納入します。なお、本システムは本年10月に稼働開始予定です。本システムは、NECの最先端AI技術群「NEC the WISE」の一つである「インバリアント分析技術」を用いて、ボイラー設備に設置した大量のセンサ情報の相関関係から「いつもと違う」状態を分析します。これにより、ボイラー設備がトラブルに至る前にその予兆を検知できます。NECとJXTGエネルギーは、本システムを用いて、同製油所のボイラー設備における過去の運転データを利用し実証を行った結果、これまでの閾値設定や傾向分析による監視システムに比べ約1週間早く異常の予兆を検知できました。

     NECグループは、本システムをはじめ、AI・IoT技術を活用し、今後も設備監視の高度化、現場作業の効率化、セキュリティ向上などを実現する様々なソリューションを提供することで、プラントのさらなる安全・安定操業に貢献していきます

  •  顔認証本人確認型日本最初の次世代型ATMをセブン銀は10月から数台で実証実験を始め、2020年夏までに東京都内のATMを新型に置き換える。24年には全国のATM約2万5000台を更新すると。日本中の各銀行への導入波及が期待される。

    (参考 )

    セブン銀行、顔認証で口座開設 本人確認わずか20~30秒
    毎日新聞
    2019/09/12 19:12


     セブン銀行は12日、顔認証機能を使って口座開設ができる新型の現金自動受払機(ATM)「ATM+」を開発したと発表した。銀行窓口に行かなくてもコンビニなどで手軽に口座を開けるようになる。将来的には入出金も顔認証だけで可能となるサービスを始めたい考えだ。
     新型ATMは世界トップクラスの精度の顔認証技術を持つNECと共同開発した。口座開設には、事前にセブン銀の専用サイトでQRコードを発行してもらう必要があり、このQRコードをATMに読み込ませることで本人確認手続きが始まる。ATMに搭載したカメラで顔を撮影し、運転免許証をスキャナーに読み込ませることで本人確認が終わり、口座が開設される。本人確認にかかる時間は20~30秒だ。
     手続き終了後に送られてくるキャッシュカードと自ら決める暗証番号を使って入出金が可能になる。利便性を高めるため、入出金もカードを使わず顔認証だけで済ませる技術開発を進める。
     セブン銀は10月から数台で実証実験を始め、2020年夏までに東京都内のATMを新型に置き換える。24年には全国のATM約2万5000台を更新する。【高橋祐貴】

  • 9月に入ってから業界筋から得られたVテク関連情報を下記に記す。

    (1)FMM情報:
    ◎FMMの現状:
     日本の2社が世界市場を独占(市場占有率:95%)している。シェア首位は日立金属のスーパーインバー超薄膜を使用して形成しているDNP製FMM。
    解像度はQHDレベル。パターン形成はエッティング方式のためUHD解像度レベルの製作は困難。

    ◎韓国の蒸着マスクメーカー(ウェーブエレクトロニクス)のFMM開発状況:
     パターン形成は電鋳メッキ方式で解像度QHDレベルを開発してサムスンにて量産レベルで検証中。DNP製と同等の熱膨張係数を確保し2019年1月に特許登録完了。現在、数ヶ月内に競合他社の製品を置き換えるため、G6世代の大規模な量産製造ラインを韓国政府とサムスンと協力して検討中。UHD解像度レベルのFMMを開発中。電鋳方式のためマスクを5μmまで薄くでき、しかも、パターンの多様形成も容易なためエッティング方式よりも比較的容易にUHD解像度レベルが実現できるという。
     Vテクが開発したFMMのサンプル出荷を早めて量産ラインで早期に検討すべきと思う。

    (2)BOEの量産化現況:
     現在、BOEは成都B7の第二期投資ラインでフレキシブルOLEDを生産している。第三期投資ラインも稼働直前だった。更に、綿陽B11では試験稼働中。
    しかし、B7の第三期ラインの稼働スケジュールを9月入って遅らせる判断をした。今後の稼働スケジュールは市場動向を見て判断するとしている。当面は第二期ライインのフレキシブルOLED歩留まり向上に技術力を集中するという。
     その要因は二つ、市場の需要不振とタッチ一体型ディスプレイ技術(FMLOC)製造のモジュール工程を含めた歩留まりが上がらないということ。FMLOCはディスプレイ中にタッチセンサーを内蔵して全体のディスプレイの厚さを減らす画期的な技術である。FMLOCディスプレイはHuaweiの「P30」用として供給の予定だったが、実際には、Huaweiからの受注量が目標値よりも大幅に減少した。BOEは下半期フレキシブルOLED市場も否定的に展望している。最近2四半期の業績を発表し、下半期フレキシブルOLED出荷量が減少して、昨年より毎年出荷量が約3000万〜5000万台減少すると予想した。このため、B7の第 3期の投資分の稼動予定も遅らせると判断したのである。また、綿陽B11で試験稼働中だったFMLOC製造ラインを停止した。

     業界では、BOEが歩留まりと市場の需要不振の問題を同時に経験しながら、今後の新工場投資予定に変化が生じるか否かの可能性に注目している。

  • >>228:
     QRコード決済対応、顔認証による本人確認対応できる次世代ATMを開発しました。
    NECと協力して。
    また、AIを活用し、現金の需要予測の高度化や各種部品の故障予測を行い、さらなる運営業務の効率化を目指します。

     このATMは9月より導入され、順次入れ替えを開始するとのこと。
    新たな金融サービスの提供と業務の効率化が進むと期待されています。

  • NECとセブン銀行が顔認証、QRコード読取にも対応する
    - 日本初の顔認証による次世代ATMの口座開設の実証実験を開始 -というIR で株価急騰。


    (参考)
    次世代ATMを導入開始 顔認証、QRコード読取にも対応
    - 日本初 顔認証によるATMでの口座開設の実証実験を開始 -

    2019年9月12日
    株式会社セブン銀行
    日本電気株式会社
     
    株式会社セブン銀行(以下、セブン銀行、東京都千代田区、代表取締役社長 舟竹 泰昭)と 日本電気株式会社(以下、NEC、東京都港区、代表取締役 執行役員社長 兼 CEO 新野 隆)は、世界No.1の認証精度を有する顔認証技術を搭載した次世代ATMを開発、9月より順次導入、入れ替えを開始することをお知らせいたします。

    近年、フィンテックをはじめとする技術革新により、新たな金融サービスの創出と業務の効率化が進み、金融機関等においても、デジタル化への対応が求められています。
    生体認証やAI・IoTなどの技術の進展を踏まえ、次世代ATMでは、顔認証による本人確認やQRコード決済に対応しました。また、AIを活用し、現金の需要予測の高度化や各種部品の故障予測を行い、さらなる運営の効率化を目指します。
    これからも、セブン銀行とNECは、ATMを通じて、安心・安全な生活インフラを提供するとともに、社会の変化に対応した、新しい価値を提供し続けてまいります。

  • また、INして良かった。強い。

  • 強硬派のボルトン氏を辞任させたことに加え、10月1日施行予定だった対中制裁関税
    拡大を10月15日に先延ばしにした影響で日経は200円を超える大幅な8日連騰になっている。

    (参考)
    「トランプ米大統領は11日、2500億ドル(約27兆円)分の中国製品に対する制裁関税の拡大を10月15日に先送りすると発表した。10月1日に税率を現在の25%から30%に引き上げる予定だった。同日に中国が建国70周年を迎えるのにあたり、劉鶴副首相から要請を受けたという。」

  • 昨日は6460、今日は6560抜けで苦労しています。

    6600到達は今日はダメかな?

  • はい、2400乗せました。
    目標達成。あいがとう。

  • NECは、米国国立標準技術研究所(NIST)の顔認証技術ベンチマークテストで4回連続の第1位評価を獲得し、世界NO1精度を有するトップクラスの顔認証システム技術を保有していますが、本日、インテルのVR装置と共に来年の東京オリンピック・パラリンピックのセキュリティーチェックで使うNEC製顔認証システムが公開されました。

     この装置は、高さがおよそ1メートル50センチ、幅が30センチほどで、大会の期間中、競技会場や選手村などの入り口に設置されます。
    大会が発行するIDカードを装置にかざしてカメラで顔を撮影すると、あらかじめ登録した選手など大会関係者およそ30万人の顔のデータと照合して、同一人物かどうかを瞬時に判断します。

     過去の大会では警備員などがチェックしていましたが、こうした顔認証の技術がオリンピックで活用されるのは初めてということで、精度を高めるとともに手続きの時間を短縮できるということです。

     一方、インテルもVR・バーチャルリアリティの技術を使い、高画質の競技映像を気軽に楽しめる技術も公開しました。

     いよいよ、NECの顔認証システムも東京オリンピック・パラリンピックでの活用を通じて一層早く世界に波及展開することが期待されます。

    (参考)
    NHKニュース;
    30万人データと瞬時に照合 東京五輪・パラ 顔認証システム公開
    2019年9月11日 21時04分(2020 運営)

  • >>236:
    >午前の安いところを拾ったが。
    >さてどうなるか?

    結果的には正解だったよ。

  • ここで、レーザーテックの主力製品とEUVリソグラフィーの現況を要約しておこう。

     先ず、レーザーテックの今期受注予定額は460億円(前期受注額:444億円)と会社は計画しています。
     
     期待される受注の製品は、
    (1)ABICSE 120(2018年9月、国際学会で「BICUS」受賞製品):
     EUVマスクブランクス検査システム(13.5nm波長)で位相欠陥を検出できる唯一の検査装置。
    (2)MATRICS X8ULTRA:
     最先端フォトマスク用欠陥検査装置で EUVマスクのパターン面(表面)を検査する装置。
    (3)BASICシリーズ:
     EUVマスクの裏面を検査及び 裏面に付着した異物の高さ測定、および異物除去(クリーニング)する装置。
    (4)SICA88:
     SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置で主要顧客から複数台の受注可能な装置。
    (5)M9650,M9651(2019年6月:「第25回半導体・オブ・ザ・イヤー 2019」 でグランプリ受賞製品):
     EUV用最先端マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置で主要マスクブランクスメーカー 及びマスクショップ及び半導体先端企業への販売推進により受注を図る。

     上記、(1)、(2)、(3)、(4)は今期を通して受注増に繋げる。
    上記(5)は特に下半期から受注急拡大の予定。
     レーザーテックは下半期の受注額を上半期受注額の2倍強を計画している。

     それでは、次にEUVリソグラフィーの現状は?
     既存の液浸リソグラフィ装置(3~4000万$/台)の波長が193nmなのに対してEUVリソグラフィー装置(9~11000万$/台)では13.5nm以下という短い波長を使うことで、現状では必要な繰り返しプロセスが不要になり、マスクパターニングの工程数を減らすことができます。また、「月産4万5000枚(300mmウェハ)の先端ロジックファブにて、7nmプロセス製品を量産する場合、クリティカルレイヤとなる6~10層にEUVを適用すると仮定した場合、7~12台のEUV装置が必要になる」とASMLは試算している。
     そして、2017年6月にIBMがGlobalFoundriesとSamsungの技術協力を得て世界初のEUV技術を用いて回路幅が5nmのプロセスルールによる「SiGe Gate-All-Around(GAA)(10nm,7nm,5nm,3nmリソグラフィー適用)」を世界で初めて開発実用化したのです。高速スイッチングが可能で、従来の垂直方向に半導体回路を積層していくFinFET(22nm,14nmリソグラフィー適用)の欠点を補う製品です。IBM研究所の半導体製造責任者のヒューミング・ブー氏は、「EUVリソグラフィがフロントエンドのパターニングに初めて使用された例です」と述べています。IBMによると、5nmプロセスチップは現在市販されている10nmプロセスチップに比べて、同じ電力で40%の性能向上、75%の消費電力量の削減が実現しているそうです。

     それでは、最後にEUVリソグラフィーを活用している半導体企業の現況は?
    ◎Samsung:
     2018年にシステムLSI事業部が手がける7nmプロセスのファウンドリーサービスに導入し、製品開発を推進している。
    ◎TSMC:
     2017年第2四半期にはEUVリソグラフィを用いた製造テストを開始し、2019年の5nmプロセス導入時よりEUVの本格導入を開始している。
    ◎Intel:
     2020年にEUVを使って7nmに移行すると予想されていたが、2019年に前倒しする計画に修正している。
    ◎GLOBALFOUNDRIES:
     当初、2020年に7nmプロセスの中でクリティカルな数層にEUVを適用する見通しとしていたが、2019年に実施すると公言している。

     なお、7nmプロセスであっても、配線層のすべてが7nmプロセスではなく、上層になれば既存の光学リソグラフィでも露光が可能であるため、EUVが必要となるのは下層の6~10層とみられる。

     一方では、先端半導体製品にEUVリソグラフィー技術が適用されると、現行のArF液浸露光装置では必須となっている多重パターニングや、関連する堆積/エッチングの繰り返しプロセスが不要となり、AMAT やLam Researchなどの主要装置メーカーの現行ビジネスに悪影響を与える可能性があり、半導体材料やマスクを含む半導体サプライチェーン全体にも影響が及ぶ可能性がでてくるという問題点もある。更に、ASMLに敗北したニコンやキャノンはEUV露光装置ビジネスから撤退しており、今後、ASML一強状態がさらに進むことになるのは確実である。

  • 6460を上抜けるのに苦労しているが。

    これも明日以降の高値更新のための生みの苦しみだろうと推測される。

  • 午前の安いところを拾ったが。
    さてどうなるか?

  • 4385でW底を打ったようだね。買い増し少なかったが。これは短期でいいから。

    流れが変わりそう。

    基軸保有は3~4月でしっかりと仕込んであるのでこれは長期用。

    さて、明日からどのように展開するか。

    興味深い。

  • 2019/09/11 07:42

    >>443:
    貴方の心理が「異常」だから、「正常」にと記した。

    「異常感」だけでは株式投資はやれないよ。お分かりかな?分からないだろうなあ素人には・・・。

  • 2019/09/10 23:06

    >>440;
    先週の株価急騰の要因は、日経が今期上期の営業利益を350億円に上方修正したことことによる。

    439の業績はアナリストによる今期通期業績の上方修正です。情報は正確に。
    記憶は正常に。

  • 9月10日:
    アナリスト(12人)の業績予想が8月27日時点に比べて上方修正されました。
    ついに、営業利益が、6月発行の会社四季報の来期2021・3期予想:1200億円を超えました。9月19日発行予定の会社四季報の上方修正に期待します。
    (単位:億円)8月27日→9月10日:
    営業利益  :1197→1219
    経常利益  :1265→1288
    純利益   : 733→748
    EPS    : 280→288円/株

  • 9月10日:
    ◎米系大手証券が目標株価を上方修正した。
    5300→5650(レーティング:強気継続)

    なお、この同一証券会社は8月1日にも、5250→5300と目標株価を上方修正している。

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