ケー・エル・エー【KLAC】の掲示板

レーザーテック
EUVマスク検査装置
A150とA300
CPU,GPU,SOCを作る
生産ラインで使えません

EUVの光源が
ウシオ電機→ロシア製研究所用
鉛を撒き散らすタイプ
検査するマスクと光学系が
鉛で汚染されるので
3ヶ月に1回
光学系を全取っ替え
最初の1ヶ月は調整
使えるのは残り2ヶ月
稼働率は65％
性能は1日マスク5枚
5nm生産ラインでは1日500〜550枚
マスクを検査出来ないと使えない
1台5000万ドルの欠陥商品

元々、KLAがEUVマスク検査装置を開発中に
インテルに資金援助を申し出たが断れ
インテルがレーザーテックに3年で
EUVマスク検査装置A150を作ってくれ
たった3年でEUVの光源、
レーザーテックが開発できると思う？
不可能だ
勝つのはKLA
キセノン光源、自社開発、万歳