テクセンドフォトマスク(株)【429A】の掲示板 2025/10/30〜2025/11/09

オワタ。。TOPPANの利確だったのね。。

米テキサスインスツルメンツはフォトマスクを使用せずに電子回路を形成する「デジタル露光」向けのデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）「ＤＬＰ９９１ＵＵＶ」の量産を始めた。毎秒最大１００ギガピクセル（ギガは１０億）の高速データ処理性能などを備え、ＡＩ（人工知能）向けの半導体で多用されるアドバンスドパッケージ（先進後工程）の需要を深耕する。

量産を始めたＤＬＰ９９１ＵＵＶは３４３ナノメートル（ナノは１０億分の１）までの短波長で動作が可能。主にプロジェクターなどで使われてきたＤＭＤを先進後工程向けの露光装置に応用した。

先進後工程はＡＩ向けの半導体で多く使われる。現在はフォトマスクを使うことが多いが、ニコンや米アプライドマテリアルズなどはフォトマスクを使わないデジタル露光の実現を目指している。