投稿一覧に戻る 6871.日本マイクロニクス(中長期ホルダー専用) 【売り煽り他入室不許可】の掲示板 22007 h64***** 2017年11月6日 21:48 大阪技術研 平成28年度(2016)研究成果紹介 緻密で平滑な酸化ニッケル膜の湿式成膜技術 当研究所では、グエラテクノロジー株式会社が開発した物理二次電池の低コスト化と高性能化 を図ることを目的に・・・ 大気下、90℃以下の水溶液をベースとする湿式成膜技術である電解析出法に取り組んだところ、物理二次電池の電極として機能する緻密で平滑な酸化ニッケル膜の形成に成功。 この方法で作製した膜は充電層への密着も良好であり、新しい低コスト電 極形成プロセスとして期待される。 返信する そう思う157 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する ツイート 投稿一覧に戻る 22009 inc***** 2017年11月7日 20:45 >>22007 http://www.omtri.or.jp/publicity/assets/files/2016.pdf#search=%27%E5%A4%A7%E9%98%AA%E6%8A%80%E8%A1%93%E7%A0%94+%E5%B9%B3%E6%88%9028%E5%B9%B4%E5%BA%A6%EF%BC%882016%EF%BC%89%E3%82%B0%E3%82%A8%E3%83%A9%27 返信する そう思う87 開く お気に入りユーザーに登録する 無視ユーザーに登録する 違反報告する
h64***** 2017年11月6日 21:48
大阪技術研 平成28年度(2016)研究成果紹介
緻密で平滑な酸化ニッケル膜の湿式成膜技術
当研究所では、グエラテクノロジー株式会社が開発した物理二次電池の低コスト化と高性能化
を図ることを目的に・・・
大気下、90℃以下の水溶液をベースとする湿式成膜技術である電解析出法に取り組んだところ、物理二次電池の電極として機能する緻密で平滑な酸化ニッケル膜の形成に成功。
この方法で作製した膜は充電層への密着も良好であり、新しい低コスト電
極形成プロセスとして期待される。