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初めまして、temさんの投稿〜いつも楽しく読ませて頂いております。

ところで、2年前にインテルに買収されたIMS社(オーストリア)が開発した「電子ビーム式描画装置」って知名度はまだまだありませんが、今後需要は伸びるとお考えですか??

  • >>4

    ニコンは半導体ステッパー技術の露光装置で一時名を馳せてましたが、結果的にASMLに負けました。
    どうも自前で完結しようとしてファブライト企業であるASMLに負けたようです。
    インテルが2.5nm以下の線幅をこの買収した企業の電子ビーム描画装置で歩留まり良くパターンを描けるか否かにかかってそうですね。

    AMDやASMLと技術覇権で争ってるインテルは何かしらの勝算があって買収した企業と考えますが、究極は電子一個分の線幅があれば、消費電力の観点からもいいのですが、電子の世界はパターン間の寄生容量という厄介な問題があります。

    まだ最先端の第9世代インテルCore_iでも10nmです。
    ASMLのEUV露光回路技術とレーザーテックのEUV半導体検査技術はある意味、技術がマッチングしているので3nm以下が描画できる新しい技術として、開発展開出来れば可能性がありそうです。

    何れにしろ3nmまでは前工程の描画装置でパターン描画の歩留まり向上ありきの、後工程検査技術グローバルシェア100%であるレーザーテックの出番と考えてます。

    光応用技術の電子顕微鏡も興味ありますし、FPD4K,8K,16Kの今後の展開も気になるところです。