smamka

5月に約400万株の買い付けだった自社株買い株価がここまで上がってくると買い付け上限金額1000億円の縛りがあるためにあと2000万株程度の枠しかないと思います。これよりも後3300万株強の空売り残が来週あたりから本格的に買い戻しに動き始めるはずです。
7月の中間決算発表時になんらかのリリース（私はビッグなニュースがあると思っていますが）があればそれで十分です。

ナノインプリント用レジストを提供する富士フイルムとのコラボ部隊でASLM追撃の火蓋を切って落とすわけです。日の丸半導体の復活を想像するだけで胸躍りますね。

２１年９月期に４１億３００万円の最高純益を出し、株価はその前年の２０年１０月２日に６３９０円の高値を示現しています。来期純益予想は８０億６９００万円ですからどこまで行っちゃうんでしょうね。

想定通りの展開になってきました。空売りの本格的な買戻しは５０００円を超えてからだと思います。今日の上げはやはりナノインプリントの革新性が理解され始めたということでしょう。中間決算の発表を楽しみにしましょう。

ASLMは最先端半導体製造には欠かせないEUV露光装置で100％のシェアを持つことにより時価総額は円換算で実に59兆円にのぼります。
一方でキヤノンはこの度独ハイデルベルク社との協業を発表したプリンティング部門、医療機器を製造するメディカル部門、カメラ　レンズのイメージング部門、更には有機ELやナノインプリントを始めとした半導体製造装置を販売するインダストリアル部門と多岐にわたります。
時価総額はたったの6兆円です。
ナノインプリントがASLMのEUVを凌ぐようなことがあれば一体どうなるでしょうか。
御伽話だと思われるでしょうが、それだけのインパクトがあるナノインプリント技術なんです。

空売り情報
1000万株以上の空売り残を抱えていたJPモルガン証券、JP MORGAN SECURITIES等のモルガン系はいよいよ買い戻し始めました。
Barklays BANKは依然として1480万株を超える空売り残を抱えたままですが来週以降買い戻さざるを得なくなるでしょうね。
5000円を超えてくると一気に買い戻してくると思っています。

富士フイルム、ナノインプリントレジストを発売
ナノインプリントリソ技術に適合

　富士フイルムは、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を開発、2024年5月下旬より富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通じて販売する。
スピンコート法に比べ、レジスト使用量は約100分の1に

　富士フイルムは2024年4月、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を開発、2024年5月下旬より富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通じて販売すると発表した。
　ナノインプリントリソグラフィは、回路パターンが形成されたマスクをレジストが塗布されたウエハー上に押し当て、回路パターンを転写、形成する技術である。従来の露光工程で用いられてきたフォトリソグラフィとは異なり、露光に用いる複雑で高額となる光学系が不要で、現像工程など製造プロセス自体も簡素化できる。このため、従来に比べ装置の導入コストや消費する電力を削減できるという。

　同社は今回、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面やマスクとの相互作用などを詳細に解析。この結果に基づき、ナノインプリントリソグラフィに最適な分子構造のレジストを新たに設計した。

　開発したナノインプリントレジストは、回路パターンが形成されたマスクに均一かつ素早く充填できる。このため、ナノメートルレベルの回路パターンを正確かつ短時間で転写し、形成することが可能となった。また、UV照射で硬化させた後にマスクを高速で剥がしても、転写された回路パターンにダメージを与えない離型性を備えている。これによって、高いスループットと歩留まりを可能にした。
　さらに、産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を活用し、ウエハー表面に適切な液滴量を塗布する方式を採用した。この結果、従来のスピンコート法に比べ、レジストの使用量を約100分の1に削減できるという。しかも、有機フッ素化合物群「PFAS」は含まれておらず、環境問題にも配慮した。

上記にあるようにナノインプリントの弱点と言われた離型時の回路パターンの欠損とスループット（生産性）の問題を完全に解決したことにより、ASLMのEUVを製造コストで圧倒することになりました。

今日大引けだけで４００万株を超える出来高がありますが、私の想像では損保大手４社が6.5兆円を超える政策保有株を売却することを発表していますがその一部ではないかと思います。それをキヤノンの将来性を見込んだファンドが仕込んだということではないでしょうか。

やっとナノインプリントの革新性が理解されてきたようですね。COO（コストオブオーナーシップ）でASLMのEUVを圧倒するナノインプリントが露光装置のど真ん中になるのは間違いないと思います。半導体の分野で我が国が復権する瞬間を見守ろうではありませんか。

以下はキヤノンのホームページからです。

半導体メモリーの最先端を走るキオクシア四日市工場では、キヤノンの「ナノインプリント」技術を応用した半導体デバイスの量産化に向けた検証が進められています。半導体メモリーは回路パターンの線幅を微細化することで、その性能や記憶容量を飛躍的に高めてきましたが近年では、これまでの光による回路パターンの製造プロセスは限界に達したといわれています。
キヤノンはさらなる微細化の壁を乗り越えるために、ナノインプリントと呼ばれる革新的な技術を応用した半導体製造装置を開発。コンパクトかつ半導体製造コストを大幅に低減できる装置として、開発の行方に注目が集まっています。

朝鮮日報日本語版　２０２３年５月５日に以下の記事が載ってます。

韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」

　SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。
　半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線（EUV）露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。
　次世代の露光技術として脚光を浴びてきたナノインプリント露光装置は、ナノパターンが刻まれたスタンプを使い、まるで印鑑を押すようにシリコンウエハー上にナノパターンを転写するのが特徴だ。
　液体である紫外線感光液をシリコン基板上にコーティングした後、透明なスタンプを接触させ圧力を加えるとスタンプとの間にパターンが形成される。その後、光を投射してパターンを固体化する。安価な紫外線を光源として使用し、レンズを使わないため、従来のフッ化アルゴン（ArF）液浸露光装置や最高2000億ウォン（200億円）もするEUV露光設備を使用するよりも経済的とされている。
　既存のArF設備で形成できる回路線幅の物理的な限界値は38ナノメートルにとどまる。主要半導体メーカーは、ArF液浸露光装置で回路パターンを2回または3回かけて形成するダブルパターニング技術を導入し、20ナノメートル以下にまで微細化を進めてきた。しかし、マルチパターニング工程を導入すると、生産時間が長くなり、蒸着やエッチングなどに使う設備の導入も増やさなければならない。それがスペースを取るため、生産ライン全体の生産量が減るデメリットが大きい。
　SKハイニックスに詳しい関係者は「既存のArF液浸露光装置では数回パターニングを行わなければならないため、工程の数が増え、生産コストが増大する」とした上で、「通常4回のマルチパターニングが必要な既存工程に比べ、ナノインプリント露光装置がコスト面ではるかに優れていることはある程度確認された」と説明した。
　ただ、ナノインプリント露光装置もまだ完全なものではない。同関係者は「EUVと比較してパターン形成の自由度が落ちるため、一定のパターンを維持するNAND型フラッシュメモリーの生産に優先的に採用される見通しだ。SKハイニックスが設備調達に乗り出したのもそのためだ」と付け加えた。
　ナノインプリント露光装置が商用化されれば、SKハイニックスをはじめとするNAND型フラッシュメモリー業者は、200層台からますます工程の難度が高まっている3D NAND型フラッシュメモリーの分野で生産性を高めることができるとみられる。3D NAND型フラッシュメモリーでは積層数を増やすためにあらゆる化学薬品処理で表面を低くすることがカギだが、200層を超えるとその部分がますます難しくなっている。
　一方、ライバル会社のサムスン電子もマルチパターニング工程導入によるコスト上昇問題を解決するため、いち早く極EUV露光設備を導入し、それ以外にナノインプリント露光装置を含む3－4種類のソリューションを開発しているとされる。
ファン・ミンギュ記者

キャノンの優れもの　次世代露光装置　ナノインプリント　ＳＫ採用へ
Posted：[ 2023年5月 8日 ]

SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。

半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、３D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。
業界でナノインプリント露光装置期、現在最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線（EUV）露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。

上記の記事は昨年5月のものですが、世界の有力な半導体メーカーが同様のテストを繰り返しているものと思われます。今回の富士フイルムによるナノインプリント用のレジストの提供により各社採用に大きく前進したことは間違いありません。
露光装置の分野に大革命の予感がしています。

7月の第二四半期の決算発表でナノインプリントに関する何らかのリリースがあると思います。待ち遠しいですね。

デュッセルドルフ=為広剛】キヤノンは27日、商業印刷機で世界最大手の独ハイデルベルグと協業すると発表した。キヤノンが手掛けるデジタル印刷機をOEM（相手先ブランドによる生産）供給し、ハイデルベルグのブランドで販売する。印刷業界では版を使わないデジタル印刷機の導入が進んでおり、ハイデルベルグの顧客基盤を活用して展開を狙う。

キヤノン子会社でオランダのキヤノンプロダクションプリンティングが製品供給についての契約を結んだ。チラシやパンフレットなど印刷業者向けの商業印刷機で、25年からキヤノンのデジタル方式のインクジェット印刷機2モデルをハイデルベルグに供給する。

ハイデルベルグは印刷業界で主流の版を使って紙に転写する「オフセット」式では4割近くのシェアを持ち世界最大手だ。一方でキヤノンが手掛けるデジタルインクジェット印刷機はこれまで持っていなかった。

キヤノンは2010年にデジタル印刷の技術を持つオランダのオセ（現キヤノンプロダクションプリンティング）を買収し、キヤノンが持つインクジェット技術を掛け合わせたデジタル印刷機を手掛ける。

版を使って紙に転写するアナログのオフセット式は安く大量に印刷できるメリットがある。一方でインクジェット式は版が不要でデジタル制御でき、少量多品種の印刷がしやすい。またアナログに比べて二酸化炭素（CO2）の排出を大幅に減らせるためアナログから切り替える動きが広がっている。

これはかなり大きなニュースですね。

この会社はヘルスケアと半導体材料中心のエレクトロニクスが主要な事業ですが、この度ナノインプリント用のレジストを開発したことによりキヤノンと共同で世界のASLMを圧倒するという事態になるかも知れません。それだけ富士フィルムのレジストは革新的なんです。

TSMCの22年の電力使用量は210億8600万kWhで、台湾全体の電力使用量の7.54％を占めています。EUVによる電力消費量が莫大で台湾国内では賄いきれなくなっており熊本に進出した理由の一つと言われています。ナノインプリントの電力消費量はEUVの10分の1とも言われており半導体メーカーが導入に向けて躍起になっている訳です。

富士フイルムは30日、最先端の半導体製造装置で使う材料を5月下旬からキヤノンに販売すると発表した。「ナノインプリント技術」を駆使した装置で、人工知能（AI）や自動運転などの広がりで需要拡大が見込まれている。富士フイルムは半導体材料事業の成長につなげる。
富士フイルムの子会社で、電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（横浜市）を通じて販売する。生産は同社の静岡工場（静岡県吉田町）で5月からはじめる。
「ナノインプリントレジスト」と呼ばれる半導体材料をキヤノンに納入する。半導体製造に用いるウエハーに塗布し、回路パターンが刻み込まれた型をハンコのように押し当てて、回路パターンを転写する工程で使う。
ナノインプリント技術を搭載した半導体製造装置はキヤノンが世界で初めて実用化し、2023年10月から発売している。これまで普及してきた製造手法と比べて、低コストや省電力で生産できる強みがある。現状で製造販売するのはキヤノンのみだ。
富士フイルムは従来の半導体製造工程で使う材料の「フォトレジスト」で世界で一定のシェアを持つ。半導体材料をグループの成長の柱と位置づけており、27年3月期の売上高で3000億円と、25年3月期見通しの2400億円から25%増やす方針を掲げている。新しい製造工程にも対応する材料をいち早く販売することで事業成長を目指す。

キヤノン、富士フィルム連合でASMLを追撃、無力化するという日本の半導体事業の世界復権を担う一大プロジェクトが始まります、

日証協発表の3300万9363株の貸し株と3000万株近い自社株買いが残っています。サムスン、TSMC,インテルのいずれかがナノインプリントの採用を検討するか採用するとかいうリリースが出たらどうなるでしょうか。個人的には非常に興味をもっています。

時間のある方は下記の記事を読んでいただければと思います。我が国のキヤノン、富士フイルム連合でASMLを追撃、無力化する可能性もあり得るということが理解出来るのではないでしょうか。


技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料 ナノインプリントレジスト新発売
ニュースリリース
2024年4月30日
半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料
ナノインプリントレジスト新発売
最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献

富士フイルム株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長・CEO：後藤 禎一）は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社（本社：神奈川県横浜市、代表取締役社長：小林 茂樹）を通じて販売します。

5G/6Gによる通信の高速・大容量化、自動運転の拡大、AIやメタバースの普及などを背景に、半導体の需要拡大と高性能化が見込まれています。昨年、高性能な先端半導体を低コスト・省電力で製造できる新しい製造技術として「ナノインプリントリソグラフィ」が実用化。「ナノインプリントリソグラフィ」は、半導体製造に用いるウエハー上のレジストに、回路パターンが刻み込まれたマスク（型）をハンコのように押し当てて回路パターンを転写・形成する技術で、半導体製造で広く使用されているフォトリソグラフィと異なって現像工程やリンス工程がなく、露光に用いる複雑な光学系も不要です。特に、高額な露光装置の導入など、投資がかさむ先端半導体分野では、フォトリソグラフィと比べてより低コスト、省電力で高性能な半導体を製造できるメリットを大きく享受できることから、「ナノインプリントリソグラフィ」の普及・拡大に期待が高まっています。

今回発売するナノインプリントレジストは、当社がフォトレジストなどの開発で培った知見と技術を活用して、製造工程におけるレジストの流動挙動や、レジストとウエハー表面・マスクそれぞれとの相互作用を詳細に解析し、「ナノインプリントリソグラフィ」に最適な分子構造を持つレジストを新規に設計したものです。当社のナノインプリントレジストは、マスクに刻み込まれた複雑な回路パターンに均一に素早く充填でき、ナノメートルレベルの回路パターンを忠実に短時間で転写・形成。さらに、UV照射により硬化させた後、マスクを高速で剥がしてもレジストに転写された回路パターンに欠損を生じさせない優れた離型性を発揮します。これにより、「ナノインプリントリソグラフィ」の実用化に向けた課題であった、スループット（時間当たりのパターニング処理能力）向上と低欠陥による歩留まり改善を可能にし、先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献します。
また、当社が産業用インクジェットプリンターの開発で培った技術を生かして、ウエハー表面に無駄なく最適な液滴量をインクジェット方式で塗布できる処方設計を実現。現在の製造プロセスで用いられるスピンコート法※1と比較して、レジストの使用量を約1/100に削減※2できます。今回発売するナノインプリントレジストは、環境や生態系への影響懸念から使用規制の動きが進む有機フッ素化合物群「PFAS」を含んでいません。
今後、当社はナノインプリントレジストの販売をとおして、最先端半導体製造時のコスト低減と省電力化に貢献する新しい半導体製造技術の普及・拡大を推進していきます。

当社は、フォトレジストやプロセスケミカル、ポリイミドなど半導体製造の前工程から後工程までのプロセス材料や、イメージセンサー用カラーフィルター材料をはじめとしたWave Control Mosaic（WCM）を展開し、最先端から非先端まで「ワンストップソリューションを提供する半導体材料メーカー」として、半導体顧客ニーズへの対応、課題解決に取り組んでいます。今回最先端の微細化に対応したナノインプリントレジストをラインアップに加え、これらの幅広い製品の提供と新しい製造技術に適合した製品開発により、半導体産業のさらなる発展に貢献していきます。

※1 レジストをウエハー上に滴下し、ウエハー高速回転させることでレジスト薄膜を作製する方法。
※2 当社による試算。
お問い合わせ

ナノインプリントは現状主要な半導体メーカーが導入を目指してカスタマイズ中だと思います。富士フイルムが開発したナノインプリント用のレジストで、ナノインプリントの最大のウイークポイントと言われた離型時の欠損とスループットの低さが解消されることにより一気に導入の勢いが強まると予想されます。
EUV露光装置と比べて圧倒的に低い生産コストが見込まれることから、半導体メーカーにとってはまさに死活問題になります。
期待しましょう。